光電光學(xué)玻璃用超純水設(shè)備主要是在玻璃清洗的時候為超聲波清洗進行供水，確保產(chǎn)水水質(zhì)在18.2MΩ.cm，從而滿足試驗用水需求，這是因為在光電光學(xué)的玻璃行業(yè)中，通過超聲波清洗鏡片是為了保證鏡片的通透程度。

研磨是光學(xué)玻璃生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量（外觀和精度）的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，少數(shù)企業(yè)的加工過程中會有漆片，其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物，根據(jù)鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同，選擇不同型號的研磨粉，在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕，玻璃研磨過后，需要用超純水進行產(chǎn)品的清洗，以獲得高品質(zhì)的產(chǎn)品。

而源水中含有大量的懸浮物、顆粒物、以及離子物質(zhì)，會導(dǎo)致在使用超聲波清洗的過程中污染和劃傷鏡片，從而導(dǎo)致鏡片清晰度不夠，而滲源給超聲波提供的超純水設(shè)備，采用了雙級反滲透+EDI工藝，可以有效去除原水中的顆粒物質(zhì)和污染物，確保最終的出水水質(zhì)能夠達到18.2MΩ.cm，設(shè)備采用PLC+智能觸摸屏控制，全自動化處理能夠保證系統(tǒng)的穩(wěn)定性。